К 2026 году у российской радиоэлектронной промышленности может появиться собственная установка для печати чипов на кремниевые пластины по топологии 130–65 нм. Конкурс на разработку решения стоимостью 5,7 млрд руб. провел Минпромторг, и выиграло АО «Зеленоградский нанотехнологический центр». Технология 65 нм, хотя и вышла на рынок еще в 2006 году, востребована для интернета вещей, кассового оборудования и автомобильной электроники, говорят эксперты. Проект, по их мнению, может снизить зависимость от импортных установок, но о полном замещении говорить рано.
Фото: Евгений Павленко, Коммерсантъ
Фото: Евгений Павленко, Коммерсантъ
“Ъ” обнаружил на портале госзакупок, что Минпромторг провел тендер стоимостью 5,7 млрд руб. на разработку отечественной фотолитографической установки (оборудование для печати чипов на кремниевых пластинах, которые затем разрезаются на микросхемы) с минимальной топологией 130 нм. Конкурс объявлен 28 сентября, 18 ноября комиссия выбрала победителя — АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (АО ЗНТЦ), ему предстоит выполнить работы до ноября 2026 года.
Установка должна состоять из специального оптического устройства, в том числе системы загрузки фотошаблонов, камеры с высокой точностью стабилизации температуры и программного обеспечения (ПО), следует из документации к тендеру.
«Одним из основных компонентов оборудования станет отечественный лазер. Мы рассматриваем несколько партнеров»,— уточнил “Ъ” гендиректор ЗНТЦ Анатолий Ковалев.
По данным «СПАРК-Интерфакс», АО ЗНТЦ учреждено в 2010 году. Чистая прибыль по итогам 2020 года — 46 млн руб. при выручке 343 млн руб. По словам представителя АО, 52% компании принадлежит АО «Зеленоградский инновационно-технологический центр», еще 48% у «Фонда инфраструктурных образовательных программ».
Топ-менеджер крупного производителя электроники говорит, что, если подрядчик сумеет разработать оборудование, на нем можно будет производить чипы топологией от 130 нм до 65 нм (используются в интернете вещей, кассовом оборудовании, автомобильной электронике). Intel выпустила процессор Intel Pentium 4 по технологии 65 нм еще в 2006 году.
Отсутствие оборудования остается одной из главных проблем развития российской отрасли радиоэлектроники.
До 2030 года стоит задача разработать оборудование с проектными нормами 250–28 нм, а также решения для норм 22–20 нм, 16–14 нм (используются в процессорах для ПК, серверов и смартфонов), следует из стратегии отрасли, утвержденной правительством в январе 2020 года. Минпромторг к 2023 году готовит план по перевооружению российских радиоэлектронных предприятий (см. “Ъ” от 18 ноября). «Россия не выпускает фотолитографию, мы с трудом можем закупать ее за границей, особенно с учетом санкций,— говорит источник “Ъ”, близкий к министерству.— Единственный выход — постепенно пройти весь путь развития от старых до современных технологий». По его словам, самая прогрессивная топология, которая сейчас используется российскими производителями,— 90 нм.
Разработка установок — выполнимая задача, но потребуется кооперация российских предприятий, которые могут выступить субподрядчиками, считает исполнительный директор Ассоциации разработчиков и производителей электроники Иван Покровский. «Технология 130–65 нм не самая современная, но самая ходовая для современных микроконтроллеров и множества периферийных микросхем»,— говорит он. Потенциально серийный выпуск оборудования может снизить зависимость российских компаний от фотолитографических установок голландской ASML, но о полной импортонезависимости речи пока не идет, считает топ-менеджер производителя электроники: «Россия все еще долго будет вынуждена закупать фоторезисты и кремниевые пластины в США, Франции и Японии».